램테크놀러지, 초고순도 인산 양자 정제 기술 특허 출원
램테크놀러지, 초고순도 인산 양자 정제 기술 특허 출원
  • 노태민 기자
  • 승인 2024.07.09 17:43
  • 댓글 0
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램테크놀러지가 '반도체 공정용 초고순도 인산 양자(Quantum) 정제 기술'에 대한 특허 5건을 출원했다고 9일 밝혔다. 초고순도 인산은 반도체 식각액으로 쓰인다.

램테크놀러지가 이번에 특허 출원한 기술은 불순물이 포함된 인산으로부터 순수 인산을 분리, 정제하는 기술이다. △온도 제어 △상온 정제 △자기장 △회전 성장 △분할 투입 등 다섯 가지 정제 기술을 활용해 순수한 인산 분자들간 결합을 최적화시키고 불순물을 제거해 초고순도 인산 정제가 가능하다.

램테크놀러지 관계자는 "양자(Quantum) 거동 제어를 통한 인산 정제 기술을 통해 초고순도 인산을 확보할 수 있게 됐다는 점에서 의미가 크다"며 "올해 하반기 특허 등록을 목표로 하고 있으며, 최근 완공된 금산공장 스마트팩토리에서 양산 확대 적용을 위한 양산기술 국책과제를 수행 중"이라고 말했다.

이어 "해당 정제 기술을 활용해 고품질 인산시장을 공략하고 전후방 시장 성장과 함께 성장동력을 확대해 나가겠다"고 덧붙였다.

디일렉=노태민 기자 tmnoh@thelec.kr
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